先进纳米技术国际论坛
[2009-12-23 16:21:47]
3月24日，“先进奈米技术国际论坛”在大家的积极准备中如期举行，基本达到了预期的效果，并受到了论坛参加工程师的一致好评，为了今后能更好的举办此类技术论坛活动，检查活动过程和总结经验教训显得很有必要。以下是此论坛的总结报告。
本次论坛邀请到了来自上海集成电路研发中心、硅知识产权交易中心、复旦大学、中芯国际、华虹NEC、宏力半导体和先进半导体等研究所、浦东新区IC企业和高校的近100名研发和工程技术人员及师生。论坛重点探讨了中国芯片发展需要的先进纳米CMOS技术中的问题和解决的思路，邀请到了来自国际纳米CMOS技术方面的顶尖专家，从不同角度探讨发展纳米CMOS技术的对策和途径。Prof.Vijay K.Arora、Prof.Xing Zhou、Prof.Cher Ming Tan等从工艺方面讲述了目前制约65nm发展的技术问题，Prof.Albert Wang则从器件角度就纳米工艺射频电路的片上集成给出了自己的见解。论坛结束后，应论坛参加工程师的要求，研究院在征求演讲嘉宾的同意后，通过电子邮件为他们提供论坛演讲嘉宾的PPT讲义。
这是在张江高科技园区举办的第一个针对先进CMOS纳米技术的国际论坛，是北京大学上海微电子研究院在推进产学研相结合道路上的又一次尝试。论坛器件，科技园区的企业和科研单位的代表与各位专家充分进行了交流互动，取得了良好的效果。
本次论坛促进了国内微电子领域在纳米CMOS技术方面与国际学术界的交流，也促进了国内产业界和学术界的交流，为更深一步解决我国在先进CMOS工艺方面科技自主创新所面临的各种问题提供了共同探讨和研究的平台。对探索中国先进纳米CMOS技术领域产、学、研合作途径、促进中国微电子技术产业发展起到了积极的推动作用。
本次论坛邀请到了来自上海集成电路研发中心、硅知识产权交易中心、复旦大学、中芯国际、华虹NEC、宏力半导体和先进半导体等研究所、浦东新区IC企业和高校的近100名研发和工程技术人员及师生。论坛重点探讨了中国芯片发展需要的先进纳米CMOS技术中的问题和解决的思路，邀请到了来自国际纳米CMOS技术方面的顶尖专家，从不同角度探讨发展纳米CMOS技术的对策和途径。Prof.Vijay K.Arora、Prof.Xing Zhou、Prof.Cher Ming Tan等从工艺方面讲述了目前制约65nm发展的技术问题，Prof.Albert Wang则从器件角度就纳米工艺射频电路的片上集成给出了自己的见解。论坛结束后，应论坛参加工程师的要求，研究院在征求演讲嘉宾的同意后，通过电子邮件为他们提供论坛演讲嘉宾的PPT讲义。
这是在张江高科技园区举办的第一个针对先进CMOS纳米技术的国际论坛，是北京大学上海微电子研究院在推进产学研相结合道路上的又一次尝试。论坛器件，科技园区的企业和科研单位的代表与各位专家充分进行了交流互动，取得了良好的效果。
本次论坛促进了国内微电子领域在纳米CMOS技术方面与国际学术界的交流，也促进了国内产业界和学术界的交流，为更深一步解决我国在先进CMOS工艺方面科技自主创新所面临的各种问题提供了共同探讨和研究的平台。对探索中国先进纳米CMOS技术领域产、学、研合作途径、促进中国微电子技术产业发展起到了积极的推动作用。